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弹性发射抛光
弹性发射抛光
弹性发射光学制造技术研究进展
2021年1月22日 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装 《中国光学（中英文）》欢迎来稿和订阅，凡欲向本刊投稿作者，请先仔细阅读 投稿须知
弹性发射加工百度百科
弹性发射加工(elastic emission machining,EEM)采用浸液工作方式，利用在工件表面高速旋转的聚氨酯小球带动抛光液中粒度为几十纳米的磨料，以尽可能小的人射角冲击工件表 2021年9月18日 2 弹性发射加工技术材料去除机理 弹性发射加工技术(Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20 世纪70年代提出的一种原子量级的 李佳慧,侯溪,张云,王佳,钟显云 弹性发射光学制造技术研究
弹性发射数控抛光系统设计及搭建 百度文库
2021年10月8日 弹性发射加工（Elastic Emission Machining）是 一种超精密抛光加工方法，常作为光学表面的最后一道 抛光工序，光学表面在经过EEM抛光后表面粗糙度可 以达 2021年10月7日 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的 原理，包含流体特性、抛光 颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装 弹性发射光学制造技术研究进展光学加工与制造光行天下
弹性发射光学制造技术研究进展 旭为光电
弹性发射加工技术 (Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20世纪70年代提出的一种原子量级的超光滑抛光技术。 基本原理如图1所示，光学元件和弹 针对现有技术缺陷，本实用新型提供一种弹性发射抛光装置，该装置采用抛光柱自转和工件自转的方式，使弹性发射抛光的面积大，适用于大口径超光滑光学元件弹性发射抛光，消 一种弹性发射抛光装置的制作方法
弹性发射光学制造技术研究进展 百度文库
2021年2月22日 弹性发射 加工技术是一种去除函数稳定，超低亚表面缺陷，面向原子级的超光滑加工方法，可以作为加工上述精度要求光学元件 的手段。本文总结了弹性发射加工 2016年8月12日 弹性发射加工是一种可以获得较高的加工精度和较低的表面粗糙度的超精密研磨方法。 其加工原理如图1所示。 加工时使用聚氨脂球作加工头，在高速旋转的加工头与被加工工件表面之间加上含有微细 超精密研磨抛光方法
CP4化学机械抛光设备 滚光抛光设备北京亿诚恒达科技
1 天前 产品简介 CP4是世界zui通用和的台式化学机械抛光设备（CMP），可以很好的满足您的研发需求。 *软件控制，可以对直径4英寸的晶圆和磁盘进行抛光。 CETRCP4可 流体动压抛光基于流体剪切效应可实现非接触微去除，可获得粗糙度1 nm以下的超光滑表面，在先进光学及微电子材料加工领域有很好应用前景。基于球体弹性发射加工方式设计流体驱动抛光球，通过Fluent软件对抛光区流场仿真，分析了流体速度以及工件表面压力和剪切力分布，从抛光间隙、工具球 光学元件超光滑表面的流体动压抛光特性研究
纳米颗粒胶体射流抛光机理及试验研究 百度学术
借鉴弹性发射加工的去除原理,本文提出了一种新的超光滑表面加工方法——纳米颗粒胶体射流抛光方法。纳米颗粒胶体射流抛光方法将界面化学、流体动力学理论与光学加工方法相结合,提供了一种可以实现原子级去处的加工方法。2021年7月24日 第5章超精密研磨与抛光PPT课件 表面没有裂纹； 对于铝材等软质材料，研磨时有很多磨粒被压入材料内； 对刀具和块规等淬火工具钢等可确保有块规那样的光泽表面。 青、石蜡、合成树脂 和人造革等。 微小的磨粒微小的磨 粒被抛光器弹性地夹 持研磨 第5章超精密研磨与抛光PPT课件百度文库
弹性发射光学制造技术研究进展
2021年12月30日 弹性发射加工技术是一种去除函数稳定，超低亚表面缺陷，面向原子级的超光滑加工方法，可以作为加工上述精度要求光学元件的手段。 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒 2006年5月22日 21 基于机械作用的超精密研磨抛光方法 基于机械作用的超精密研磨抛光方法是依靠微细磨粒的机械作用对被加工表面 进行微量去除，达到高精度的加工表面。 211 弹性发射加工 弹性发射加工是一种可以获得较高的加工精度和较低的表面粗糙度的超精密研超精密研磨抛光方法 bearing
弹性发射加工材料去除的滚动模型分析,International Journal of
2023年6月25日 弹性发射加工（EEM）是获得超光滑表面的最有效技术之一。抛光轮将抛光颗粒供给到工件表面的特定位置，与工件发生化学反应，实现材料的无损去除。然而，抛光轮与浆料之间的相互作用以及原子去除机制仍不清楚。在这项研究中，在三维状态下考虑抛光轮和浆料之间的相互动态相互作用，并建立 2016年11月9日 工件自转单元带动工件自转；抛光柱自转,带动抛光液流动对工件进行弹性发射抛光。 该实用新型采用抛光柱自转和工件自转的方式,适用于大口径超光滑光学元件弹性发射抛光,可消除抛光纹路,提高抛光效率、面形精度及降低表面粗糙度,减少 一种弹性发射抛光装置 百度学术
石英玻璃的等离子体抛光技术研究现状Research Status of
本文介绍了气囊、磁流变、弹性发射、离子束等几种石英玻璃的精密抛光方法，侧重阐述了国内外等离子体的抛光技术，包括等离子体辅助化学刻蚀、等离子体喷射加工、等离子化学蒸发加工研究进展及取得的成果；且对等离子体的未来发展进行概述。 Abstract 2024年6月17日 福晶科技可以提供超光滑工艺抛光的光学元件，成熟的超光滑抛光技术加工出的熔石英光学元件表面粗糙度最优可达到1Å以下。 光学检测能力 可根据客户要求使用Zygo New View 8300白光干涉仪或原子显微镜（AFM）对表面粗糙度进行测量。 粗糙度测量：Zygo New View 超光滑抛光光学元件福建福晶科技股份有限公司福晶科技
李佳慧,侯溪,张云,王佳,钟显云 弹性发射光学制造技术研究
2021年9月18日 2 弹性发射加工技术材料去除机理 弹性发射加工技术(Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20 世纪70年代提出的一种原子量级的超光滑抛光 技术[17]。基本原理如图1所示，光学元件和弹性 变形恢复快的聚氨酯抛光工具浸泡在 摘要： 深紫外光刻,极紫外光刻和先进光源等现代光学工程需求牵引先进光学制造技术持续发展,要求超光滑光学元件表面粗糙度达到原子级水平以及表面全频段面形误差达到RMS(Root Mean Square)亚纳米量级甚至几十皮米,推动超光滑光学元件制造要求不断逼近物理极限目前,对于如何实现上述超高精度要求 弹性发射光学制造技术研究进展 百度学术
磁流变抛光技术百度百科
磁流变抛光技术(Magnetorheological Finishing,MRF)是利用磁流变抛光液在磁场中流变性进行抛光的一种超精密加工方法。磁流变液主要由离散的微米级磁性颗粒、载液和表长面活性剂组成。具有磁特性、流变性和稳定性等特点。在无外加磁场时，磁性微粒无规则分布，磁流变液为可流动液体状态;而在外加 2021年10月8日 弹性发射数控抛光系统设计及搭建在静止状态下受力如图4左图所示，可得到： (2)在抛光过程中受力状态如图4右图所示，由于压电 陶瓷伸长范围小于100μm，远小于L1、L2、L3的长度， 故可认为FS、F0、F1到A点力臂距离始终分别为L3、 L2、L1 弹性发射数控抛光系统设计及搭建 百度文库
第7章 精密研磨与抛光百度文库
软质磨粒机械抛光（弹性发射 加工） 最小切除可以达到原子级，直至切去一 层原子，而且被加工表面的晶格不致变形， 能够获得极小表面粗糙度和材质极纯的表面。 加工原理实质是磨粒原子的扩散作用和加速 的微小粒子弹性射击的机械作用的综合效果 软质磨粒机械抛光（弹性发射 加工） 最小切除可以达到原子级，直至切去一层原子，而且被加工表面的晶格不致变形，能够获得极小表面粗糙度和材质极纯的表面。加工原理实质是磨粒原子的扩散作用和加速的微小粒子弹性射击的机械作用的综合效果 超精密研磨抛光的主要新技术百度文库
第7章超精密研磨与抛光百度文库
弹性发射抛光 工作原理 抛光轮与工件表面形成 小间隙，中间置抛光液， 靠抛光轮高速回转造成 微粉(磨粒) 磨料的“弹性发射”进 行加工。 本科生专业课程 超精密研磨与抛光 邓建新 山东大学机械工程学院 2010年10月 精密和超精 密磨料加工 砂轮磨削 用于弹性发射中抛光压力的控制装置及抛光压力确定方法 CN61, [3] 李梦凡, 胡小川, 赵远程, 侯溪 一种光学元件表面缺陷高精度检测装置 CN59, [4] 赵远程, 胡小川, 李梦凡, 侯溪侯溪中国科学院大学UCAS SEP 教育业务接入平台
光学元件超光滑表面的流体动压抛光特性研究
流体动压抛光基于流体剪切效应可实现非接触微去除，可获得粗糙度1 nm以下的超光滑表面，在先进光学及微电子材料加工领域有很好应用前景。基于球体弹性发射加工方式设计流体驱动抛光球，通过Fluent软件对抛光区流场仿真，分析了流体速度以及工件表面压力和剪切力分布，从抛光间隙、工具球 借鉴弹性发射加工的去除原理,本文提出了一种新的超光滑表面加工方法——纳米颗粒胶体射流抛光方法。纳米颗粒胶体射流抛光方法将界面化学、流体动力学理论与光学加工方法相结合,提供了一种可以实现原子级去处的加工方法。纳米颗粒胶体射流抛光机理及试验研究 百度学术
第5章超精密研磨与抛光PPT课件百度文库
2021年7月24日 第5章超精密研磨与抛光PPT课件 表面没有裂纹； 对于铝材等软质材料，研磨时有很多磨粒被压入材料内； 对刀具和块规等淬火工具钢等可确保有块规那样的光泽表面。 青、石蜡、合成树脂 和人造革等。 微小的磨粒微小的磨 粒被抛光器弹性地夹 持研磨 2021年12月30日 弹性发射加工技术是一种去除函数稳定，超低亚表面缺陷，面向原子级的超光滑加工方法，可以作为加工上述精度要求光学元件的手段。 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒 弹性发射光学制造技术研究进展
超精密研磨抛光方法 bearing
2006年5月22日 21 基于机械作用的超精密研磨抛光方法 基于机械作用的超精密研磨抛光方法是依靠微细磨粒的机械作用对被加工表面 进行微量去除，达到高精度的加工表面。 211 弹性发射加工 弹性发射加工是一种可以获得较高的加工精度和较低的表面粗糙度的超精密研2023年6月25日 弹性发射加工（EEM）是获得超光滑表面的最有效技术之一。抛光轮将抛光颗粒供给到工件表面的特定位置，与工件发生化学反应，实现材料的无损去除。然而，抛光轮与浆料之间的相互作用以及原子去除机制仍不清楚。在这项研究中，在三维状态下考虑抛光轮和浆料之间的相互动态相互作用，并建立 弹性发射加工材料去除的滚动模型分析,International Journal of
一种弹性发射抛光装置 百度学术
2016年11月9日 工件自转单元带动工件自转；抛光柱自转,带动抛光液流动对工件进行弹性发射抛光。 该实用新型采用抛光柱自转和工件自转的方式,适用于大口径超光滑光学元件弹性发射抛光,可消除抛光纹路,提高抛光效率、面形精度及降低表面粗糙度,减少 本文介绍了气囊、磁流变、弹性发射、离子束等几种石英玻璃的精密抛光方法，侧重阐述了国内外等离子体的抛光技术，包括等离子体辅助化学刻蚀、等离子体喷射加工、等离子化学蒸发加工研究进展及取得的成果；且对等离子体的未来发展进行概述。 Abstract 石英玻璃的等离子体抛光技术研究现状Research Status of